晶片法案通過研發費可抵稅

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本報台北訊 2023-01-08

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【本報台北訊】因應未來半導體產業的布局競爭，政府以實質的政策，鼓勵企業在台灣進行先進研發與採用先進設備，確保先進製程續留在國內，立法院會昨三讀通過《產業創新條例》第10條之2及第72條修正案（俗稱台版晶片法案），未來半導體、5G、電動車等技術創新且居國際供應鏈關鍵地位的公司，研發費用的25%及購置先進製程的全新機器等支出的5%，皆可抵減當年營所稅，從今年元旦起至2029年12月31日施行。經濟部表示，將會同財政部在6個月內完成子法。

不限產業別

技術創新均適用

此次修法重點包括，未來從事先進半導體研發，賦稅獎勵可從15%提升至25%；廠商使用先進設備也享有5%抵減，並取消支出金額上限。不過，兩者抵減各自上限不得超過當年度營所稅30%，兩項合計不得超過當年度營所稅的50%。

經濟部指出，適用對象不限產業別，只要在國內進行技術創新且位居國際供應鏈關鍵地位的公司，符合適用要件者均得申請適用。

經濟部表示，此次修法提供關鍵產業升級版的研發與設備投資抵減，適用資格要件上有一定門檻，可鼓勵企業積極投資根留台灣，也納入經濟合作暨發展組織（OECD）全球企業最低稅負制精神，兼顧產業發展與負擔合理稅負。

OECD推全球企業最低稅負制，設定適用對象的有效稅率要達一定標準。經濟部表示，目前規畫是2023年度有效稅率應達12%、2024年度起應達15%，但2024年得審酌國際間施行OECD全球企業最低稅負制情形，報請行政院調整為12%，以給予我國產業緩衝期。

經濟部表示，將會同財政部在6個月內完成子辦法訂定，適用要件的規模及名詞定義，將參考國內外產業發展狀況、主要上市櫃公司研發經費及產業研發密度，並蒐集產業界、產官學研專家意見訂定，同時因應產業發展趨勢及時滾動修正。

另外申請流程、申請期限、審查機制及書表文件等，亦將於子辦法中明定，未來申請案件則會透過審查機制，邀請相關部會及外部專家共同審核。

保障被害人權益

遺屬補償金180萬元

近年來發生多起重大犯罪被害案件，社會高度關注現行保護被害人是否完善，立法院會昨三讀通過《犯罪被害人保護法》修正案，除更名為《犯罪被害人權益保障法》，三讀條文明訂，遺屬補償金180萬元、重傷補償金為80萬元至160萬元、性侵害補償金為10萬元至40萬元、境外補償金20萬元。

此外，為防制性暴力等犯罪，立法院昨也三讀修正通過相關《刑法》部分條文，增訂性影像定義及妨害性隱私及不實性影像罪，法條明定，若製作不實性影像並散布營利，最高可處7年有期徒刑。

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